人物简介
哈尔·英曼(Hal Inman)，美国工程师。研究方向：集成电路。主要成就：IC 工艺。荣誉：—。其研究成果在学术界和产业界产生了重要影响。
主要成就
IC 工艺
详细介绍
哈尔·英曼(Hal Inman)，美国工程师。研究方向：集成电路。主要成就：IC 工艺。荣誉：—。其研究成果在学术界和产业界产生了重要影响。 —。 代表成果：IC 工艺。
基本信息
所属机构
IBM
职务
研究员
学历背景
—
出生日期
1937年
国籍
美国
研究领域
集成电路
学科数据洞察
108+
同领域专家
82岁
领域平均年龄
4+
获奖人数
*以上数据由科技人编辑部基于公开数据库统计，旨在为研究者提供学科视角的参考信息。
荣誉称号
资深专家行业贡献者
知识图谱
加载中...
相关人物
王小谟
中国工程院院士、国家最高科学技术奖、雷达技术专家
吴子宁
华大九天董事长
王志功
中国半导体科学家
穆罕默德·阿塔拉
埃及工程师，MOSFET发明人
赤崎勇
名古屋大学/名城大学教授、蓝光LED之父
致敬留言